{"id":1236,"date":"2025-12-19T03:25:41","date_gmt":"2025-12-19T03:25:41","guid":{"rendered":"https:\/\/www.cgvacuum.com\/?post_type=product&p=1236"},"modified":"2025-12-19T04:01:05","modified_gmt":"2025-12-19T04:01:05","slug":"pvd-coating-machine-for-electronics","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/www.cgvacuum.com\/fr\/produit\/pvd-coating-machine-for-electronics\/","title":{"rendered":"Machine de rev\u00eatement PVD pour l'\u00e9lectronique, fabricant de machines de rev\u00eatement sous vide par pulv\u00e9risation magn\u00e9tron"},"content":{"rendered":"

Sp\u00e9cifications de la machine de rev\u00eatement PVD pour l'\u00e9lectronique :<\/h3>\n\n\n\n
Num\u00e9ro de mod\u00e8le<\/strong><\/td>Dimensions L x H (mm)<\/strong><\/td>Vide ultime (Pa)<\/strong><\/td>Temps de pompage (min)<\/strong><\/td>Puissance de sout\u00e8nement (kW)<\/strong><\/td>Puissance totale (kW)<\/strong><\/td><\/tr>
CZ1214<\/td>1200 x 1400 mm<\/td>\u22648\u00d710-\u2074<\/td>\uff1c5<\/td>40<\/td>50<\/td><\/tr>
CZ1416<\/td>1400 x 1600 mm<\/td>\u22648\u00d710-\u2074<\/td>\uff1c5<\/td>60<\/td>60<\/td><\/tr>
CZ1618<\/td>1600 x 1800 mm<\/td>\u22648\u00d710-\u2074<\/td>\uff1c5<\/td>80<\/td>80<\/td><\/tr>
CZ1818<\/td>1800 x 1800 mm<\/td>\u22648\u00d710-\u2074<\/td>\uff1c5<\/td>160<\/td>110<\/td><\/tr>
CZ2018<\/td>2000*1800 mm<\/td>\u22648\u00d710-\u2074<\/td>\uff1c5<\/td>160<\/td>120<\/td><\/tr><\/tbody><\/table><\/figure>\n\n\n\n

*Les sp\u00e9cifications de l'\u00e9quipement peuvent \u00eatre personnalis\u00e9es selon les besoins du client.<\/strong><\/p>\n\n\n\n

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\n
\"Machine<\/figure>\n<\/div>\n\n\n\n
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Caract\u00e9ristiques de la machine de rev\u00eatement PVD pour l'\u00e9lectronique :<\/h3>\n\n\n\n

Source de pulv\u00e9risation magn\u00e9tron \u00e0 haute stabilit\u00e9 :<\/strong> La distribution optimis\u00e9e du champ magn\u00e9tique et la structure de la cible cr\u00e9ent un plasma stable et de haute densit\u00e9, permettant le d\u00e9p\u00f4t de couches minces \u00e0 faible endommagement et \u00e0 taux contr\u00f4lable, afin de r\u00e9pondre aux exigences de consistance des couches des appareils \u00e9lectroniques.<\/p>\n\n\n\n

Structure de chambre \u00e0 vide \u00e0 haute propret\u00e9<\/strong>: La structure interne de la chambre est optimis\u00e9e pour la propret\u00e9 des rev\u00eatements \u00e9lectroniques, r\u00e9duisant efficacement la contamination particulaire et l'introduction d'impuret\u00e9s, am\u00e9liorant la puret\u00e9 et la fiabilit\u00e9 du film.<\/p>\n\n\n\n

Contr\u00f4le pr\u00e9cis de la puissance de pulv\u00e9risation<\/strong>: Le syst\u00e8me ind\u00e9pendant d'alimentation et de r\u00e9gulation de la puissance permet de r\u00e9aliser des d\u00e9p\u00f4ts fins \u00e0 faible puissance et des d\u00e9p\u00f4ts \u00e0 haute efficacit\u00e9 \u00e9nerg\u00e9tique, s'adaptant ainsi aux diff\u00e9rentes fen\u00eatres de traitement des films fonctionnels \u00e9lectroniques.<\/p>\n\n\n\n

Effet de rev\u00eatement constant :<\/strong> Gr\u00e2ce au contr\u00f4le coordonn\u00e9 de la distance cible-substrat, du syst\u00e8me de rotation et des param\u00e8tres de d\u00e9p\u00f4t, on obtient une \u00e9paisseur de film uniforme et des effets de pulv\u00e9risation hautement reproductibles sur la surface des composants \u00e9lectroniques.<\/p>\n\n\n\n

Adaptation du processus de pulv\u00e9risation cryog\u00e9nique : <\/strong>La pulv\u00e9risation magn\u00e9tron pr\u00e9sente une zone affect\u00e9e par la chaleur minimale, adapt\u00e9e aux substrats \u00e9lectroniques sensibles \u00e0 la temp\u00e9rature et aux composants de pr\u00e9cision, ce qui r\u00e9duit le risque de stress thermique.<\/p>\n\n\n\n

Syst\u00e8me de contr\u00f4le automatis\u00e9 int\u00e9gr\u00e9 :<\/strong> Il permet de stocker et d'extraire les param\u00e8tres du processus, ce qui garantit des performances de rev\u00eatement tr\u00e8s constantes dans la production de masse.<\/p>\n\n\n\n

Compatibilit\u00e9 avec les applications multi-\u00e9lectroniques<\/strong>: S'adapte aux exigences de rev\u00eatement des diff\u00e9rents sc\u00e9narios d'application \u00e9lectronique, y compris l'am\u00e9lioration fonctionnelle, la protection de la surface et l'am\u00e9lioration des performances, fournissant une plate-forme universelle de rev\u00eatement par pulv\u00e9risation cathodique pour l'industrie \u00e9lectronique.<\/p>\n<\/div>\n<\/div>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

La machine de rev\u00eatement PVD pour l'\u00e9lectronique de CGVAC fournit des couches minces pr\u00e9cises, uniformes et reproductibles pour les capteurs, les composants \u00e9lectroniques et les pi\u00e8ces de pr\u00e9cision. Nous proposons des configurations personnalisables, une grande stabilit\u00e9 et une assistance technique compl\u00e8te. Contactez-nous pour des solutions PVD sur mesure dans de nombreuses industries.<\/p>\n

Param\u00e8tres techniques :<\/h2>\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n
Mat\u00e9riaux cibles<\/strong><\/td>\nTitane (Ti), chrome (Cr), zirconium (Zr), acier inoxydable, ITO, FTO et autres<\/td>\n<\/tr>\n
Gaz industriels<\/strong><\/td>\nArgon (Ar), Azote (N\u2082), Oxyg\u00e8ne (O\u2082), H\u2082 (Hydrog\u00e8ne)<\/td>\n<\/tr>\n
Technologie de rev\u00eatement<\/strong><\/td>\nRev\u00eatement sous vide par pulv\u00e9risation cathodique magn\u00e9tron<\/td>\n<\/tr>\n
Couleur du rev\u00eatement<\/strong><\/td>\nOr, or rose, noir, argent, bleu, champagne, couleurs mates\/satin\u00e9es et diff\u00e9rentes couleurs<\/td>\n<\/tr>\n
Films fonctionnels et optiques<\/strong><\/td>\nITO, SiO\u2082, TiO\u2082, Cr, Al, Ag, ITO\/Ag\/ITO, films optiques et \u00e9lectroniques<\/td>\n<\/tr>\n
Composants essentiels<\/strong><\/td>\nCible d'arc, syst\u00e8me de commande, pompe<\/td>\n<\/tr>\n
Application<\/strong><\/td>\nAcier inoxydable, \u00e9lectronique et optique, verre, int\u00e9rieur et composants automobiles<\/td>\n<\/tr>\n
Personnalisation<\/strong><\/td>\nTaille, mat\u00e9riau cible, couleur, conception de l'appareil et plan de traitement personnalis\u00e9s<\/td>\n<\/tr>\n
Service<\/strong><\/td>\nRapports d'essais m\u00e9caniques\/d'\u00e9chantillons, inspection vid\u00e9o \u00e0 la sortie et conseils techniques<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n

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